Plaquette de poudre de polissage semi-conducteur alumine calcinée
La poudre de polissage d’alumine calcinée à plaque est fabriquée à partir de poudre d’alumine industrielle de haute qualité comme matière première et traitée par un processus de production spécial. La forme cristalline de la poudre de polissage d’alumine produite est hexagonale plate comme une forme tabulaire, elle est donc appelée alumine plaquettaire ou alumine tabulaire.
La pureté de l’alumine de la plaque d’alumine est supérieure à 99% et présente les caractéristiques de résistance à la chaleur, de résistance à la corrosion acide et alcaline et de dureté élevée. Différent des particules sphériques abrasives traditionnelles, la surface inférieure de l’alumine plate est plate et les particules s’adaptent à la surface de la pièce pendant le meulage, ce qui produit un effet de meulage glissant, ce qui évite que les angles vifs des particules ne rayent la surface de la pièce. D’autre part, la plaque d’alumine lors du broyage, la pression de broyage est uniformément répartie sur la surface des particules, les particules ne se cassent pas facilement et la résistance à l’usure est améliorée, améliorant ainsi l’efficacité de broyage et la finition de surface.
Le PWA est une poudre abrasive blanche d’alumine calcinée constituée de cristaux en forme de plaque d’oxyde d’aluminium (Al 2 O 3 ) d’une pureté supérieure à 99,0 %.
- Chimiquement inerte
- Ne sera pas corrodé par les acides ou les alcalins
- Excellentes propriétés de résistance à la chaleur
- Plus grand nombre de grades uniformes que ceux disponibles chez la plupart des fabricants
La distribution granulométrique est étroitement contrôlée et produit une surface rodée très fine permettant une large gamme d’applications, telles que :
- Agent de rodage pour :
- Silicium
- Matériaux optiques
- Liquide Crystal
- Acier inoxydable
- Autres matériaux
- Matériau de remplissage pour revêtements
- Matériel de rodage tissu ou papier
- Agent de compoundage associé à un métal ou une résine synthétique
| La taille des particules | Répartition des particules (µm) | Remarques | |||
| Taille maximale des particules | Taille des particules à j 03 | Taille des particules à j 50 | Taille des particules à j 94 | ||
| 45 | < 82,9 | 53,4 ± 3,20 | 34,9 ± 2,30 | 22,8 ± 1,80 | Discontinué |
| WCA40 | < 77,8 | 41,8 ± 2,80 | 29,7 ± 2,00 | 19,0 ± 1,00 | |
| WCA35 | < 64,0 | 37,6 ± 2,20 | 25,5 ± 1,70 | 16,0 ± 1,00 | |
| WCA30 | < 50,8 | 30,2 ± 2,10 | 20,8 ± 1,50 | 14,5 ± 1,10 | |
| WCA25 | < 40,3 | 26,3 ± 1,90 | 17,4 ± 1,30 | 10,4 ± 0,80 | |
| WCA20 | < 32,0 | 22,5 ± 1,60 | 14,2 ± 1,10 | 9,00 ± 0,80 | |
| WCA15 | < 25,4 | 16,0 ± 1,20 | 10,2 ± 0,80 | 6,30 ± 0,50 | |
| WCA12 | < 20,2 | 12,8 ± 1,00 | 8,20 ± 0,60 | 4,90 ± 0,40 | |
| WCA9 | < 16,0 | 9,70 ± 0,80 | 6,40 ± 0,50 | 3,60 ± 0,30 | |
| WCA5 | < 12,7 | 7,20 ± 0,60 | 4,70 ± 0,40 | 2,80 ± 0,25 | |
| WCA3 | < 10,1 | 5,20 ± 0,40 | 3,10 ± 0,30 | 1,80 ± 0,30 | |
Pour les matériaux semi-conducteurs tels que les tranches de silicium semi-conducteur, l’application d’oxyde d’aluminium en plaque peut réduire le temps de meulage, améliorer considérablement l’efficacité du meulage, réduire la perte de la rectifieuse, économiser les coûts de main-d’œuvre et de meulage et augmenter le taux de réussite du meulage. La qualité est proche des marques étrangères bien connues.
L’efficacité de travail du meulage de l’ampoule de verre du tube image est augmentée de 3 à 5 fois;
Le taux de produit qualifié est augmenté de 10 à 15 % et le taux de produit qualifié de plaquettes semi-conductrices atteint plus de 99 % ;
La consommation de meulage est de 40 à 40 % inférieure à celle de la poudre de polissage d’alumine ordinaire ;
Composition chimique
| Al2O3 | ≥99,0 % |
| SiO2 | <0,2 |
| Fe2O3 | <0,1 |
| Na2O | <1 |
Propriétés physiques
| Matériel | α-Al2O3 |
| Couleur | Blanc |
| Gravité spécifique | ≥3.9g/cm3 |
| Dureté de Mohs | 9.0 |
Domaine d’application du produit :
1) Industrie électronique : meulage et polissage de plaquettes de silicium monocristallin semi-conducteur, cristaux de quartz quartz, semi-conducteurs composés (gallium cristallin, nano phosphatation).
2) Industrie du verre: meulage et traitement du cristal, du verre de quartz, de l’écran de coque en verre kinéscope, du verre optique, du substrat en verre pour écran à cristaux liquides (LCD) et du cristal de quartz.
3) Industrie du revêtement : revêtements spéciaux et charges pour projection plasma.
4) Industrie de transformation des métaux et de la céramique: matériaux céramiques de précision, matières premières céramiques frittées, revêtements haute température de haute qualité, etc.
Paquet : 10kgs/sac, 20kgs/carton
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